La agencia de noticias
Reuters informa de que científicos chinos han logrado construir el primer prototipo de máquina de litografía de luz ultravioleta extrema (EUV), necesaria para poder fabricar chips de última generación basados en procesos altamente refinados de forma autónoma. La importancia de este suceso es comparada con un "proyecto Manhattan" en relación a la IA, habiendo implicado al propio gobierno chino, que dirige el proyecto, y a ingenieros de Huawei, que estarían durmiendo en las propias instalaciones por razones de seguridad. Y es que la historia detrás de esta máquina es…
